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我国光刻样机实现微纳器件三维光制造新突破,光刻出最小9纳米线段

  2019-04-15 15:00 

​4月15日消息,据科技日报报道,武汉光电国家研究中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制,采用远场光学的办法,光刻出最小9纳米线宽的线段,实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。据悉,甘棕松团队利用的是光刻胶材料对不同波长光束能够产生不同的光化学反应,让自主研发的光刻胶在第一个波长的激光光束下产生固化,在第二个波长的激光光束下破坏固化。第二束光被调制为空心光(中心光强为0),并利用第二曙光与第一束光形成的重合光斑,作用于光刻胶。这样只有第二束光空心部分的光刻胶最终被固化,从而远场突破衍射极限。...

欧洲芯片实验室IMEC研发出新型EUV技术,国产光刻机面临压力

  2019-03-25 10:48 

​近年来,国产光刻机从无到有,从有到精。制造出国产芯片光刻机是14亿中国老百姓的共同心愿,有了国产光刻机,我们就能造出国产芯片,不用担心被ASML公司“卡脖子”。要实现光刻机国产化,就必须要投入很多资金、人力,现在国家也在重视支持国产光刻机发展。目前国内已能生产制造28nm芯片的国产光刻机,尽管技术仍有待提高,但毕竟实现了国产化,在以后的日子里,经过打磨提高,仍有希望在光刻机巨头ASML的碗里分一杯羹。然而,我们在进步,别人也在进步。最近,ASML的合作伙伴、欧洲芯片实验室IMEC研发出新型EUV光刻机技术,这项先进技术对于发展5nm和3nm的光刻机有重要作用。...

IMEC和KMLabs研发出新型EUV光源,提供更高的空间和时间分辨率

  2019-03-18 15:59 

将光刻技术转移到EUV波段意味着材料和光源的巨大变化。新的13.5纳米EUV等离子体光源取代了193纳米波长的紫外激光器。光子能量随着波长的减小而增加,因此来自激光驱动的新型等离子体EUV光源的每个光子所携带的能量是来自旧激光光源的光子的14倍。高能量光子需要新的光刻胶材料,这是一个具有挑战性的化学问题。新近开发出来的光刻胶都遭受到看似随机的缺陷(称为“随机印刷失败”)的困扰。比利时微电子研究中心(IMEC)研究探测材料的首席科学家John Petersen说,这个问题已经成为EUV光刻的首要问题。...

ASML证实:中国首台ASML NXT2000i正式入驻SK海力士无锡工厂

  2018-12-20 15:59 

​12月19日晚间,中国首台ASML NXT2000i正式搬入SK海力士位于无锡的工厂。据ASML证实,此次入驻SK海力士无锡工厂确为NXT2000i,也即NXT2000。ASML解释道,i是immersion的意思。NXT2000都是immersion的机器。所以NXT2000即NXT2000i。...

中微半导体研制的等离子体刻蚀机将用于全球首条5纳米制程生产线

  2018-12-17 16:33 

​12月17日消息,5纳米,相当于头发丝直径(约为0.1毫米)的二万分之一,将成为集成电路芯片上的最小线宽。台积电计划明年进行5纳米制程试产,预计2020年量产。最近,中微半导体设备(上海)有限公司收到一个好消息:其自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证,性能优良,将用于全球首条5纳米制程生产线。刻蚀机是芯片制造的关键装备之一,中微突破了“卡脖子”技术,让“上海制造”跻身刻蚀机国际第一梯队。...

国家重大科研装备研制项目超分辨光刻装备研制通过验收

  2018-11-30 16:44 

​11月29日电,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”29日通过验收。该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。...

世界上首台用紫外光源实现22纳米分辨率的光刻机

  2018-11-30 10:00 

​11月29日,中科院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,这是世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。...

屹唐半导体宣布其北京工厂首台设备10月下线!

  2018-09-27 16:33 

近日,北京屹唐半导体科技有限公司(以下简称“屹唐半导体”)宣布其北京工厂第一台设备将于10月16日成功下线。屹唐半导体主要为全球12英寸晶圆厂客户提供Dry Strip、Dry Etch、RTP、MSA等设备及应用方案,其主要客户涵盖所有位列全球前十的芯片制造厂商。...

Entegris发布新一代EUV 1010光罩盒,用于进行大批量IC制造

  2018-08-21 10:36 

​日前,业界领先的特种化学及先进材料解决方案的公司Entegris发布了下一代EUV 1010光罩盒,用于以极紫外(EUV)光刻技术进行大批量IC制造。...

ASML推出新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺

  2018-08-03 10:34 

​据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)已经开始出货新品Twinscan NXT:2000i DUV(NXT:2000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点。...

意法半导体高集成度四通道低边开关,为智能自动化带来丰富的诊断功能

  2018-05-31 13:58 

​横跨多重电子应用领域、全球领先的半导体供货商意法半导体( STMicroelectronics ,简称 ST)IPS4260L 四通道低边智能功率开关可提升工业自动化设备的效率和可靠性。...

深圳先进院高性能导热复合材料研究获系列进展

  2018-05-17 15:46 

​近期,中国科学院深圳先进技术研究院集成所先进材料中心孙蓉研究员团队在高性能导热复合材料研究中取得一系列进展。...

芯片研设:Synopsys 设计平台获得TSMC最新工艺认证

  2018-05-11 17:28 

​2018年5月10日,中国 北京——全球第一大芯片自动化设计解决方案提供商及全球第一大芯片接口IP供应商、信息安全和软件质量的全球领导者Synopsys(NASDAQ: SNPS)近日宣布,Synopsys 设计平台获得TSMC最新工艺认证,符合TSMC最新版设计规则手册(DRM)规定的7-nm FinFET Plus先进工艺技术的相关规范。...

上海硅酸盐所发现全球首个非金属半导体材料室温下可弯曲还摔不碎

  2018-04-24 13:48 

近日,中国科学院上海硅酸盐研究所史迅研究员、陈立东研究员与德国马普所合作,发现了世界首个室温下可弯曲、摔不碎的非金属半导体材料硫化亚银。这是一种典型的半导体,却具有非常反常的良好延展性和可弯曲性,有望在柔性电子中获得广泛应用。...

可弯曲摔不碎的半导体你们见过吗?

  2018-04-13 14:06 

​可弯曲摔不碎的半导体?颠覆你的认知。硫化亚银是一种典型的半导体,但却具有非常反常的和金属类似的力学性能,特别是它拥有良好的延展性和可弯曲性,有望在柔性电子中获得广泛应用,比如智能衣服、可弯曲太阳能板等。...

超酷的中国科学家给您揭秘“以柔克刚”的神奇半导体材料

  2018-04-13 13:38 

可折叠的柔性电子设备是很多人期待已久的新装备。但受限于半导体材料的脆性,可能带来一场电子技术革命的柔性电子技术和生产工艺,还面临着巨大挑战。中国科学家的最新研究成果有望打破这一瓶颈。...

苹果可弯曲柔性电池或用于可折叠手机

  2018-04-03 10:30 

最近,苹果的柔性电池(flexible battery)新专利公布。据科技网站Digital Trend报道,3月29日,美国专利商标局公布了苹果柔性电池专利。...

首尔半导体推业界最小的面向日本照明市场的24W LED驱动器

  2018-03-27 10:56 

​日前,首尔半导体为日本照明市场成功开发出业界最小的100V / 24W LED驱动器。NanoDriver系列LED驱动器采用首尔半导体Acrich专利技术,可生产超小型器件,以100V的输入设计可驱动8至24W的LED电路,并具有低闪烁要求。...

富勒烯材料导电性能极大提升 有望改变半导体行业游戏规则

  2018-03-22 16:31 

​《自然》杂志18日(北京时间)发表了美国密歇根大学开发的一种新方法,诱导电子在有机材料富勒烯中“穿行”,距离远远超过此前认为的极限。这项研究提升了有机材料应用于太阳能电池和半导体制造的潜力,或将改变相关行业游戏规则。...

ASML光刻机欠火候:c/GF 7nm EUV异常难产

  2018-03-15 15:42 

​不久前,高通宣布未来集成5G基带的骁龙芯片将基于三星的7nm制造,具体来说是7nm LPP,使用EUV(极紫外)技术。紧接着,三星就在华诚破土动工了一座新的7nm EUV工艺制造工厂,2020年之前要投产。看似风风火火,但其实7nm EUV依然面临着不少技术难题。...