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22纳米分辨率光刻机有何用途?不能用来光刻CPU

  2018-12-03 09:49 

中科院研制的这种光刻机不能(像一些网媒说的)用来光刻CPU。它的意义是用便宜光源实现较高的分辨率,用于一些特殊制造场景,很经济。...

光刻机的匹配和调整

  2018-02-11 10:27 

光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点。...

半导体硅片的化学清洗技术说明

  2018-02-12 10:17 

硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,本文主要就给大家介绍了半导体硅片的清洗技术,感兴趣的读者可以进来看看。...

离子刻蚀的原理及其功能,结构简介

  2018-02-12 09:54 

本文主要详细阐述离子刻蚀技术的原理,反应腔功能与结构设计,着重介绍适应集成电路特征尺寸微细化发展所采用的新技术。...

硅片纳米微粒清洗洁净新技术

  2018-02-11 10:44 

目前,半导体行业中广泛使用的清洗方法仍是RCA(美国无线电公司)清洗法。但在向下一代65nm节点的迈进中,新结构的纳米器件对于清洗设备不断提出了新的挑战,因而对硅片表面各种污染物的控制规定了纳米微粒去除的特殊要求。根据国际半导体技术发展路线图计划,当半导体器件从90nm提升到65nm工艺时,必须将清洗过程中单晶硅和氧化硅的损失量从0.1nm减小到0.05nm。...

干法刻蚀的介绍

  2018-02-11 10:00 

刻蚀是指用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程。刻蚀的基本目的,是在涂胶(或有掩膜)的硅片上正确的复制出掩膜图形。...

​化学气相沉积的原理及其特点

  2018-02-07 10:55 

​化学气相沉积是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。下面让我们一起来看一下化学气相沉积的原理及其特点。...

​物理气相沉积技术的工艺步骤及其原理

  2018-02-07 10:43 

​物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD)技术表示在真空条件下,采用物理方法,将材料源——固体或液体表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 ...

半导体元件制造过程的常识简介

  2018-02-07 09:43 

​半导体从业者对芯片都有一定程度的了解,但我相信除了在晶圆厂的人外,很少有人对工艺流程有深入的了解。在这里小编来给大家做一个科普。首先要做一些基本常识科普:半导体元件制造过程可分为前段制程(包括晶圆处理制程、晶圆针测制程);还有后段(包括封装、测试制程)。...