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光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlign... [详细]

【用途】光刻机可广泛应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备。...

【分类】光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋...

【维护保养】保养胜于维修,日常的保养维护十分重要,光刻机的保养方法:1、每周用压缩空气清洁一次各个冷却风扇。2、...

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2019上海国际物联网展览会
地点:上海新国际博览中心时间:2019-07-03
2019第六届上海国际物联网展览会
地点:上海新国际博览中心时间:2019-07-03
2019年钣金展会第二十届广州国际钣金工业展览会
地点:中国进出口商品交易会琶洲展馆C区首层(广州市海珠区新港东路980号)时间:2019-06-13
硅抛光片化学清洗的办法有哪些?
答: 硅片的表面受到比较严重的污染,这时候可以考虑使用如下几种化学清洗方法进行清洁:a.使用强氧化剂使 ……[详细]
中国的光刻机现在达到多少纳米了?
答:2016年底,华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽,双线间距低 ……[详细]
湿法刻蚀相对于等离子刻蚀的缺点?
答:1、 硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);2、下料吸笔易污染硅片( ……[详细]