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光刻机又名掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫MaskAlign... [详细]

【用途】光刻机可广泛应用于微纳流控晶片加工、微纳光学元件、微纳光栅、NMEMS器件等微纳结构器件的制备。...

【分类】光刻机一般根据操作的简便性分为三种,手动、半自动、全自动。A手动:指的是对准的调节方式,是通过手调旋...

【维护保养】保养胜于维修,日常的保养维护十分重要,光刻机的保养方法:1、每周用压缩空气清洁一次各个冷却风扇。2、...

展会会议

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2019第二十八届中国国际信息通信展览会(PT展)
地点:北京•国家会议中心 (北京市朝阳区天辰东路7号)时间:2019-10-31
2019第十五届中国(上海)国际铸造展览会
地点:上海新国际博览中心(龙阳路2345号)时间:2019-10-30
2019年中国(广东)家电博览
地点:广东(潭洲)国际会展中心时间:2019-10-24
硅抛光片化学清洗的办法有哪些?
答: 硅片的表面受到比较严重的污染,这时候可以考虑使用如下几种化学清洗方法进行清洁:a.使用强氧化剂使 ……[详细]
中国的光刻机现在达到多少纳米了?
答:2016年底,华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽,双线间距低 ……[详细]
湿法刻蚀相对于等离子刻蚀的缺点?
答:1、 硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);2、下料吸笔易污染硅片( ……[详细]