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刻蚀设备的发展和光刻技术,互连技术密切相关。HighK/LowK材料,铜互连,MetalGate,d... [详细]

【选型指南】SCE等离子刻蚀机支持以下四种平面等离子体处理模式:直接模式:基片可以直接放置在电极托架或是底座托架...

【用途】等离子刻蚀机可应用于所有的基材,甚至复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、等离子体清洗,等离子刻蚀,...

【故障排除】等离子体刻蚀机常见故障:1、清洗界面(1)进入清洗界面,清洗阀不动作1)检查PLC输出点Y3是否点亮...

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2019上海国际物联网展览会
地点:上海新国际博览中心时间:2019-07-03
2019第六届上海国际物联网展览会
地点:上海新国际博览中心时间:2019-07-03
2019年钣金展会第二十届广州国际钣金工业展览会
地点:中国进出口商品交易会琶洲展馆C区首层(广州市海珠区新港东路980号)时间:2019-06-13
硅抛光片化学清洗的办法有哪些?
答: 硅片的表面受到比较严重的污染,这时候可以考虑使用如下几种化学清洗方法进行清洁:a.使用强氧化剂使 ……[详细]
中国的光刻机现在达到多少纳米了?
答:2016年底,华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽,双线间距低 ……[详细]
湿法刻蚀相对于等离子刻蚀的缺点?
答:1、 硅片水平运行,机片高(等离子刻蚀去PSG槽式浸泡甩干,硅片受冲击小);2、下料吸笔易污染硅片( ……[详细]