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化学气相沉积(CVD)是一种化工技术,该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬... [详细]

【用途】设备适用于300mm/200mm半导体生产线,面向0.35um-28nm集成电路制造、MEMS、功率...

【分类】化学气相沉积设备根据CVD反应器的特性,其装置分为开口体系和密闭体系两大类。1、封管法这种反应方式是...

【维护保养】CVD设备系统的清理和维护:CVD设备系统需要定期进行清理和维护以保证沉积参数的准确控制和沉积设备的...

展会会议

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2019年钣金展会第二十届广州国际钣金工业展览会
地点:中国进出口商品交易会琶洲展馆C区首层(广州市海珠区新港东路980号)时间:2019-06-13
2019亚洲国际消费电子展CES ASIA
地点:上海新国际展览中心时间:2019-06-11
2019北京少儿智能产品及创客教育展览会
地点:中国国际展览中心-老馆时间:2019-05-16
硅抛光片化学清洗的办法有哪些?
答: 硅片的表面受到比较严重的污染,这时候可以考虑使用如下几种化学清洗方法进行清洁:a.使用强氧化剂使 ……[详细]
中国的光刻机现在达到多少纳米了?
答:2016年底,华中科技大学国家光电实验室目前利用双光束在光刻胶上首次完成了 9nm 线宽,双线间距低 ……[详细]
物理气相沉积和化学气相沉积的区别及优缺点?
答: 化学气相沉积过程中有化学反应,多种材料相互反应,生成新的的材料。 物理气相沉积中没有化学反应 ……[详细]