手机贤集

贤集网技术服务平台欢迎您

登录 注册

ASML第二季度营收25.68亿欧元,共卖出48台光刻机

文章来源: 半导体行业观察       发布时间:2019-07-18

7月18日消息,据国外媒体报道,知名半导体设备供应商阿斯麦公司公布的数据显示,其在今年二季度共出货48台光刻机,与一季度持平,但不及去年同期。阿斯麦发布了二季度的财报,该季其营收25.68亿欧元,毛利润、净利润环比也均有增长。阿斯麦在官网披露的数据显示,其在二季度的营收为25.68亿欧元,较今年一季度的22.29亿欧元增加3.39亿欧元,环比增长率为15.2%。


ASML第二季度营收25.68亿欧元,共卖出48台光刻机


利润方面,阿斯麦官网的数据显示其今年二季度的毛利润为11.05亿欧元,也高于上一季度,其今年一季度的毛利润为9.28亿欧元,环比增加1.77亿欧元,19%的环比增长率高于营收的环比增长率。毛利润提升之后,其二季度的毛利润率环比也有提升,该季其毛利润率为43%,较一季度的41.6%提升1.4个百分点。净利润方面,财报显示为4.76亿欧元,上一季度为3.55亿欧元,环比大增34.1%;摊薄之后每股的收益为1.13欧元,较上一季度的0.84欧元增长34.5%。


虽然阿斯麦二季度的营收、各项利润环比均有增长,但其现金储备在这一季度却有明显减少,阿斯麦官网的数据显示,其现金、现金等价物和短期投资在二季度结束时共有23.35亿欧元,一季度结束时是32.75亿欧元,减少了9.4亿欧元。对于今年三季度,阿斯麦预计营收在30亿欧元左右,毛利润率在43%到44%之间。


阿斯麦的数据显示,其在今年二季度发出的光刻机中,有41台是新生产的,7台则是翻新的,合计48台,而在今年一季度,其也是发出了48台光刻机,有43台是新生产的,余下5台则是翻新的。


虽然阿斯麦光刻机在今年二季度的出货量与一季度持平,但与去年同期相比,其光刻机的出货量还是有明显下滑,其光刻机在去年二季度共出货58台,今年一季度的48台较之是下滑了17%。


从阿斯麦所公布的数据来看,今年二季度其最先进的极紫外光刻机的出货量与去年同期持平,同为7台,较今年一季度的4台有增加。


其他光源的光刻机中,ArF光源的浸润式光刻机二季度出货13台,低于去年同期的19台,也不及今年一季度的17台;ArF光源的干刻机出货3台,今年一季度为4台,去年二季度为5台。


KrF光源的光刻机在一季度出货19台,较一季度的14台增加了5台,与去年同期的19台持平。


ASML第二季度营收25.68亿欧元,共卖出48台光刻机


荷商微影设备制造大厂艾司摩尔(ASML)展望今年下半年,指出「我们看到记忆体客户需求趋弱,逻辑客户的需求走强」,预期逻辑芯片客户的强劲需求将可补偿记忆体市场的需求减缓,逻辑芯片市场的需求主要来自客户加速7纳米及以下先进制程的投资。公司预估第3季销售金额将季增15.38%。


ASML的客户包括台积电、三星、英特尔、美光等,从预估来看,下半年包括DRAM、NAND Flash等记忆体市场仍走弱,台积电代工的逻辑芯片需求走强。


ASML今日发布2019年第2季财报,根据艾斯摩尔公布的资料显示,2019 年第2 季的营收为26 亿欧元,较第1 季的22.291 亿欧元,上涨13.63%。净收入4.76 亿欧元,也较第1 季的3.55 亿欧元,上涨34.08%。毛利率 43%,较第1 季的41.6%,成长1.4 个百分点。因上一季财报会议,艾司摩尔预估2019 年第2 季的营收将介于25.0 亿至26.0 亿欧元,毛利率则是预估在41% 到42% 之间,因此就公布的业绩来看,整体表现优于市场预期。


ASML 总裁暨执行长Peter Wennink 表示,受惠于EUV 系统制造效率提升和现场升级业务营收的挹注,艾司摩尔2019 年第2 季的营收和毛利率都优于先前财测。而对于2019 下半年,目前看到记忆体客户需求趋弱,而逻辑客户的需求走强。因此,预期逻辑芯片客户的强劲需求,预计将可补偿在记忆体市场方面的需求减缓。


Peter Wennink 强调,逻辑芯片市场的需求主要来自于客户加速7 纳米及以下先进制程节点的投资。而艾司摩尔在2019 年第2 季总计接获10 台EUV 极紫外光系统的订单。当中有部分将被用于生产DRAM 芯片。至于,面对当前市场诸多不确定因素下,艾司摩尔2019 年的整体营收目标将维持不变,2019 年对艾司摩尔来说仍是成长的一年。


ASML在第2季接获10台EUV极紫外光系统的订单,当中有部分将被用于生产DRAM芯片。公司对2019年的整体营收目标维持不变,今年对于ASML来说仍是成长的1年。


此外,ASML 已同意将EUV 光罩护膜(pellicle) 组装技术,授权给日商三井化学,未来三井化学将能为ASML 客户,提供大量的组装与光罩护膜销售。同时,ASML 将继续与其合作伙伴,共同开发下一代光罩护膜,持续改善EUV 光罩护膜效能。


EUV光刻机未来还能怎么发展?2016年ASML公司宣布斥资20亿美元收购德国蔡司公司25%的股份,并投资数亿美元合作研发新一代透镜,而ASML这么大手笔投资光学镜头公司就是为了研发新一代EUV光刻机。


日前韩媒报道称,ASML公司正积极投资研发下一代EUV光刻机,与现有的光刻机相比,二代EUV光刻机最大的变化就是High NA(高数值孔径)透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。


ASML第二季度营收25.68亿欧元,共卖出48台光刻机


在这个问题上,ASML去年10月份就宣布与IMEC比利时微电子中心合作研发新一代EUV光刻机,目标是将NA从0.33提升到0.5以上,而从光刻机的分辨率公式——光刻机分辨率=k1*λ/NA中可以看出,NA数字越大,光刻机分辨率越高,所以提高NA数值孔径是下一代EUV光刻机的关键,毕竟现在EUV极紫外光已经提升过一次了。


之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了,甚至开始进军2nm、1nm节点了。


文章来源:半导体行业观察

注:文章内的所有配图皆为网络转载图片,侵权即删!

声明:“贤集网”的所有作品,版权均属于贤集网,如需转载,请注明出处;本网站转载的内容版权归原网站所有,如有侵权或其他问题, 请及时通过电子邮或者电话通知我们,以迅速采取适当措施,避免给双方造成不必要的经济损失

我来说几句


获取验证码
最新评论

还没有人评论哦,抢沙发吧~